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服務(wù)案例
芯片晶圓研磨廢水(中水回用)項目
發(fā)布日期: 2023-12-15 12:10:06
閱讀數: 349

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半導體芯片制造/ 晶圓切割等綜合廢水處理 


半導體芯片制造過(guò)程中產(chǎn)生的廢水成分復雜,通常包含酸堿廢水、含氟廢水、含銅廢水、含硅廢水、含氨廢水、有機廢水及含重金屬廢水等多種類(lèi)型;其廢水來(lái)源主要包括:

晶圓清洗廢水:在晶圓制造過(guò)程中,需要進(jìn)行多次清洗,產(chǎn)生大量廢水。

化學(xué)蝕刻廢水:蝕刻過(guò)程使用的化學(xué)試劑會(huì )產(chǎn)生廢水。

光刻工藝廢水:涉及到化學(xué)溶液的使用,產(chǎn)生廢液。

CMP 拋光廢水:拋光過(guò)程中產(chǎn)生的廢水。

設備清洗廢水:清洗生產(chǎn)設備產(chǎn)生的廢水。



  合作案例       



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項目信息

驗收時(shí)間:2024年6月

項目規模:純水:10噸/小時(shí)、中水回用:30噸/小時(shí)

處理工藝:純水部分:二級RO+EDI   中水回用:板框壓濾+超濾


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